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行业技术动态:ACTFil近期制作完工的某超纯水设备工艺说明

作者:www.actfil.net来源:弘益净化 浏览次数: 日期:2014-06-06 12:43:25

根据原水水质,原水中的悬浮物及部分溶解的有机物经化学凝聚剂系统注入凝聚剂凝聚后,由全自动气体冲刷式过滤器均为引进美国技术设计制造。

鉴于原水硬度稍高(121.1mg/L),我们分析了国内数十家企业相似的水站,结合我们的经验,采用加阻垢剂的方法,防止钙、镁在RO中结垢。保证其后的RO等价格昂贵的核心设备的得以长期、高效、稳定地运行。

一次纯水设备由换热器、二级RO、一次膜脱氧装置及电除盐EDI设备组成。二级RO去除水中绝大部分的阴、阳离子、硅、TOC、二氧化碳及有机物,降低水的电导率;在RO后,设膜脱气装置,使DO ≤10PPb,它不仅可使溶解氧达到要求浓度以下,而且减轻了EDI设备的阴离子负荷,对保证EDI设备长期、高效、稳定地运行有极大的意义;EDI设备可将RO处理水中残留的极少量的离子、重金属、碱金属、硅 、溶解的有机物等去除。其间,合理设置紫外线杀菌器(UV Stilizer)及紫外线氧化器(去TOC),有效改善水质。EDI设备自动化程度极高,再生无需酸碱投入,完全无人值守操作。对其他工艺难以去除的硅和硼元素,去除效果明显。

二次纯水设备由恒压氮气保护水箱、换热系统、紫外线氧化器(去TOC)、二次膜脱氧装置、二级抛光混床以及超滤器(UF)等组成。紫外线氧化器采用低压185nm的紫外灯,用以分解残存中水中的TOC、较低分子量的有机物。二次膜脱氧装置去除纯水中的CO2及溶解氧DO<5ppb。抛光混床采用低溶出式均球树脂,除去前置紫外线氧化器分解TOC产生的有机物以及一次纯水中存在的极微量离子、硅、重金属离子、碱金属离子等,使电阻率稳定在18 MΩ.cm(25℃)以上;总有机碳(TOC)<5ppb;二氧化硅(SiO2 )≤3ppb;重金属离子、碱金属离子均<0.1ppb。超滤器(UF)采用本身不生离子的外压式膜,最后除去超纯水中的微粒成份,使水中>0.1μm的颗粒≤1pcs/mL;细菌(Bacteria)≤1CFU/L,以满足工艺要求。

设置排水回收系统,对有用的排出水进行回收,提高水的回收率。在节约用水的同时,由于回收的水的水质特点,还可降低系统负荷,减小系统配置。

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该资讯的关键词为:超纯水设备,EDI设备